以Fe2+或Fe3+、H2O2為介質進行均勻光催化降解，光輔助芬頓反應生成羥基基降解污染物。紫外光能增強氧化作用，是一種有效的催化劑。UV/臭氧(UV/03)的組合可以加快臭氧的分解速度，增加羥基基的生成速度，促進有機化合物中大量活性的形成，從而提高難降解有機污染物的處理效率。

　　均相光催化降解是以Fe2 +或Fe3 +和H2O2為介質，通過光輔助芬頓反應生成羥基基來降解污染物。紫外光能提高氧化效果，是一種有效的催化劑。紫外線/臭氧的結合(UV / 03)是發生臭氧分解的速率，發生羥基基的形成速率。并促進大量活性的形成，提高難降解有機污染物的處理效率。

　　非均相光催化降解是利用光輻照一些具有能帶結構的半導體光催化劑，如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，羥基基的生成。在水溶液中，水在半導體光催化劑的作用下產生氧化能力強的羥基基，可氧化分解各種有機化合物。將該技術應用于持久性有機污染物的處理可以取得較好的效果，但并非所有的半導體材料都可以作為該技術的催化劑。例如，CdS是一種高活性的半導體光催化劑，但容易發生光陽極腐蝕，在實際的處理技術中并不十分實用。TiO2的波長可達387.5nm，價格低廉、不溶性好、耐光、在大多數條件下無毒，因此得到了廣泛的應用。

　　非均相光催化降解是利用一些帶結構的半導體光催化劑在光輻照下對TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等進行催化，從而羥基基的發生。在水溶液中，水在半導體光催化劑的作用下產生強羥基基，具有氧化和分解各種有機物的能力。將該技術應用于持久性有機污染物的處理可以取得較好的效果，但并不是所有的半導體材料都可以作為該技術的催化劑。例如，CdS是一種高活性的半導體光催化劑。但光陽極容易發生腐蝕，在實際加工工藝中并不十分實用。TiO2可以是2，波長高達387.5 nm，也就是說，大多數條件是不溶性、耐光性和無毒的，因此TiO2已經得到了廣泛的應用。

　　2、每周要清理進空氣防塵網，檢查排氣防塵網是否有插頭，如房間內氣壓無故增大，必須更換排氣防塵網;

　　- > >每周清潔進風塵網，檢查胸圍塵網是否有堵塞。如果房間內空氣壓力無故增大，必須更換半身像防塵網。

　　7. 每半年對整個噴漆房及平臺進行一次清洗，檢查循環風閥、進排氣風機軸承，檢查燃燒器排煙通道，清洗油箱內沉積物，清洗水基防護

　　除臭設備,生物除臭設備,等離子除臭設備,UV光電除臭設備,活性炭除臭設備專利技術，更節能，更環保