影響光氧催化設(shè)備處理效果的主要因素

 

光氧催化設(shè)備處理VOCs的適用范圍主要包括噴涂車間、印刷、電子、制藥、食品等行業(yè)產(chǎn)生的低濃度有機(jī)廢氣，濃度在20.200PPM以下效果更***，隨著VOCs濃度的增加，降解效率也會降低。目前，185納米和254納米的真空紫外燈被廣泛使用，這是由于真空紫外燈發(fā)射的紫外線的能量強(qiáng)度有限，單位時間的光解能量不足，效率降低。因此，單純增加燈具數(shù)量并不能解決高濃度有機(jī)氣體的問題，紫外線光解技術(shù)也不適用于中高濃度的VOCs氣體。

 

低相對濕度的影響。

 

在一定濕度條件下，氧氣吸收了***部分185nm紫外光，但隨著濕度的進(jìn)一步增加，水蒸氣與氧氣競爭吸收185nm紫外光，水蒸氣吸收更多的185nm紫外光，產(chǎn)生更多的羥基自由基。水蒸氣與活性氧反應(yīng)生成羥基自由基，羥基自由基比臭氧和活性氧更具氧化性，光解速度明顯加快，單位時間廢氣去除率提高。相對濕度在30-65%范圍內(nèi)，光解效率增加，當(dāng)相對濕度超過70%時，光解效率逐漸降低。

 

以及風(fēng)速和濕度差異的影響。

 

風(fēng)速越高，水汽進(jìn)出口濕度差越小，意味著風(fēng)速越高，羥基自由基產(chǎn)生值越小。因此，在低風(fēng)速條件下，羥基自由基對揮發(fā)性有機(jī)物VOCs的貢獻(xiàn)較***，而在高風(fēng)速條件下，羥基自由基對有機(jī)物降解的作用將變得非常有限。在低濃度下，延長停留時間不能等效提高廢氣去除效率。

 

光源的選擇和影響。

 

一般選用185rim和254nm的真空紫外燈。真空紫外設(shè)備入口處的風(fēng)速影響紫外燈的管表面溫度，直接關(guān)系到紫外燈的發(fā)光效率。當(dāng)燈面溫度高于一定值時，會直接影響其發(fā)光效率。臭氧結(jié)合真空紫外光可以降解許多有機(jī)廢氣。254nm的紫外光可以促進(jìn)臭氧產(chǎn)生氧自由基，從而氧化廢氣分子。在真空紫外條件下，空氣中的臭氧和水蒸氣會產(chǎn)生羥基自由基，可氧化甲苯等廢氣。

 

合理的設(shè)備空間布局和結(jié)構(gòu)。

 

目前光氧催化設(shè)備處理VOCs的設(shè)備自動化程度較低，基本沒有自動檢測監(jiān)控功能，無法有效評估產(chǎn)品的整體效果。要妥善處理催化劑的排列和數(shù)量，準(zhǔn)確處理透光率和氣體流量，合理匹配能量，***化結(jié)構(gòu)。