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光氧催化設備的清洗工藝

光氧催化設備的清洗工藝
 
光催化氧化設備是一種應用廣泛的凈化設備,其工業化生產也非常重要。為了保持設備的使用壽命,我們需要定期清潔和維護設備。我們來介紹一下設備清洗流程:
一、清洗流程:
1.切斷電源,打開檢修門。
2.取出需要清洗的設備,在苛性鈉水中浸泡半小時,然后用清水沖洗干凈。
3.用自然的方法干燥,保證設備干燥后可以放回光解設備,從而完成簡單的清洗工作。
二、清洗周期:
一般是3個月左右。清洗周期越短,氣味處理效率越高。如果長時間不清洗,會有很多安全隱患。
三、清潔用洗滌劑:
就是普通熱水可以用來喝燒堿。水溫***控制在50℃,因為在這個水溫下燒堿的處理量是一個比較***的水溫,所以需要清洗的設備可以在洗滌槽內清洗。
四、正確的清洗可以減少內部零件出現問題的可能性,提高使用效率,所以在實際操作中必須嚴格遵循正確的清洗流程和步驟,以保證清洗效果。
五、設備安裝后,廠家會為企業做清潔維護培訓。因為清洗過程不難,一般人都能操作,這也是光氧催化設備被廣泛使用的因素之一。
光催化氧化設備以其******的工作方式和******的凈化效率在工業生產中得到廣泛應用,但長期使用會給設備帶來***量的灰塵和麻煩,因此應定期清洗,并了解具體的清洗過程。